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8月科學教育網小李來為大家講解下。et加速器官方下載（云速加速器官網下載）這個很多人還不知道,現在讓我們一起來看看吧！

機器告訴你哪種鈣鈦礦最穩定！

盡管最近為改善用于能量收集和轉化的鹵化鈣鈦礦材料的環境穩定性做出了巨大努力，但傳統的試錯法勘探仍然面臨著在廣闊的化學和成分篩選的瓶頸。麻省理工學院Tonio Buonassisi和Shijing Sun等人報道了一個物理受限的順序學習框架，可以篩選出最穩定的合金化的有機-無機鈣鈦礦。將來自高通量退化測試和相熱力學第一性原理計算的數據融合到使用概率約束的端到端貝葉斯優化算法中。

通過僅采樣離散化CsxMAyFA1-x-yPbI3（MA，甲基銨; FA，甲脒）組成空間的1.8％，以Cs0.17MA0.03FA0.80PbI3為中心的鈣鈦礦在溫度，濕度和光照下，比MAPbI3的穩定性提高了17倍。

與最新的多鹵化物Cs0.05(MA0.17FA0.83)0.95Pb(I0.83Br0.17)3相比，該組分薄膜的穩定性提高了3倍，從而在不降低太陽能電池效率的情況下提高了器件的穩定性。基于同步加速器的X射線散射驗證了使用更少的元素和最多8％的MA抑制化學分解和相變的現象。研究人員期望可以將這種數據融合方法擴展為指導多種多元系統的材料發現。

Shijing Sun et al. A data fusion approach to optimize compositional stability of halide perovskites, Joule, 2021

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Esperanto Technologies 建造了可能是有史以來最多內核的處理器，一共有1092個內核。我們放置了 1,088 個節能的 ET-Minion RISC-V 處理器，每個處理器都有自己的矢量/張量單元；四個高性能 ET-Maxion RISC-V 處理器；超過 1.6 億字節的片上 SRAM；以及外部 DRAM 和閃存的接口。

既可以作為獨立處理器運行，也可以作為 PCIe 驅動的加速器運行

水分解光催化劑的表征研究

由于不斷增長的能源消耗和燃燒化石燃料造成的全球變暖威脅，光驅動催化的研究已變得極為重要。在模仿大自然利用太陽能將H2O分解為H2和O2的人工光合作用方面，人們付出了大量的努力。目前正在開發新穎的半導體和分子光催化劑，其集中于通過單組分光催化劑的一步激發過程或模仿自然光合作用的Z-方案的兩步激發過程。分析和物理化學方法可提供不同時間和長度范圍的信息，用于對導致催化活性的所有過程進行基本了解，例如光吸收，電荷分離，電荷向反應中心的轉移和催化轉化，以及了解光催化活性材料的降解過程。特別是分子型光催化劑由于反應性中間體的形成而導致降解，長期穩定性仍然有限。

有鑒于此，德國耶拿光子技術研究院Maria W?chtler等人，重點介紹了光譜、光譜電化學和電化學方法在研究半導體和(超)分子光催化劑過程中的潛力。

本文要點：

1）特別強調的是光譜方法，以研究順序電子轉移鏈中間產物的光誘導過程。此外，對主要用于半導體和雜化光催化材料的微觀表征方法進行了綜述，因為表面積，結構，晶面，缺陷以及諸如結晶度和晶體尺寸的本體性質是電荷分離，轉移過程和抑制電荷重組的關鍵參數。掃描探針顯微鏡的最新發展也將被重點介紹，因為這種技術非常適合研究光催化活性材料。

2）目前在理解多電子過程和光催化的基本機制方面已經取得了實質性的進展。為了使光驅動光催化在經濟上具有競爭力，仍然需要解決諸如效率、穩定性/降解、器件集成等重大挑戰。迄今為止，關于光催化劑的降解途徑、反應性變化的信息仍然很少，特別是當與異質載體（例如金屬氧化物或聚合物）進行界面結合以進行器件開發時。這需要原位和操作光譜，散射和顯微技術的進一步發展。盡管光束時間和成本仍然限制了催化研究中更廣泛的應用，但同步加速器輻射源的使用改善了空間和時間分辨率。

3）合成化學家、材料科學家、高級分析和物理化學表征方法專家以及理論化學家/物理學家之間的密切協同合作必將使未來的發展受益。特別是，諸如DFT建模和多尺度建模之類的計算研究描述了催化反應并理解了潛在的機理，并深入了解了分子水平以外的分子-材料相互作用，這對于材料的合理設計以及對實驗的驗證非常重要。量子力學建模必須從很少的原子擴展到嵌入復雜環境中的大型超分子聚集體。例如，連續溶劑化模型可用于預測溶劑化分子的性質和過程。此外，在混合QM/MM方法中，基于分子力學(MM)耦合量子力學方法可替代經典描述被用來模擬光誘導過程。

Christine Kranz et al. Characterizing photocatalysts for water splitting: from atoms to bulk and from slow to ultrafast processes. Chem. Soc. Rev., 2020.

DOI: 10.1039/D0CS00526F

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20年差距？！你沒看錯，但沒必要在意這個！

近日，中芯國際聯席CEO趙海軍表示：“荷蘭光刻機企業ASML首席技術官此前來上海參觀時說，荷蘭ASML公司所生產的光刻機和中國光刻機設備，有著大概20年左右的技術差距。”

荷蘭aslmEUV光刻機全球有5000多個供應商，32%在荷蘭和英國，27%在美國，14%在德國，27%在日本，集合了眾家所長，可以說是目前人類高端科技的結晶。

以核心元件光刻機鏡頭為例，荷蘭EUV光刻機的鏡頭采用德國蔡司公司，這可是一家百年老牌光學廠商，高精度光學鏡頭業內獨領風騷。

曾經有人做了一個比喻，如果鏡面比作德國面積，那么蔡司反射鏡表面粗糙度可控制在1mm以內。雖然有些夸張，但是也側面反應了德國蔡司鏡頭的工藝水平之高。

但是，國防科技大學發起了亞納米拋光技術的攻關。據說研制成功新一代離子束拋光機床與數控光順拋光機床，其最小可控材料去除量達到0.1納米，這已經是固體拋光極限精度，這是繼美國，德國外第三個掌握該技術的國家。

光刻機另一大關鍵技術光源問題，2月25日，清華大學宣布物理系教授唐傳祥為首的研究團隊研發了一種新型粒子加速器光源“穩態微聚束”（SSMB），明確表示未來可用于EUV光刻機上，標志著我們在EUV光源獲得新的進展。

當下主要任務還是應該沉下心來攻克技術難關，不要聽信對方動不動就是幾十年的技術代差，且不說20年后我們研發出EUV光刻機意義多少，對手也不會一直原地踏步等我們追趕，當年我們殲10首飛的時候，人家的F22已經在試飛了，按理說這差距貌似不止20年吧，如今我們的殲20一樣可以進入全球戰機的第一梯隊，而且發動機也是純國產。#光刻機# #科技快訊# #數碼圈八卦# #華為#

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